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Ionpure® VNX-CDIT大流量膜堆
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VNX-CDIT膜堆采用成熟可靠的 IONPURE 连续电去离子 (CEDI) 技术生产高纯水。
VNX-CDIT 膜堆不同于 VNX 家族内的任何其它型号。此膜堆可容忍高达 4 ppm 进水硬度 (以 CaCO3计)、高达 2 ppm 进水硅含量 (以 SiO2计) 和高达 100 μS/cm 进水相当电导率 (FCE)。简而言之，这些膜堆经过优化，可以通常用来自于单级反渗透 (RO) 的产水作为进水生产高纯水，回收率最高可达 90%。
- 最高 4 ppm进水硬度 (以CaCO3计)
- 最高 2 ppm进水SiO2含量
- 在大多数情况下可以一级RO产水作为进水
- 专为高进水硬度优化的薄室技术
- 垫片密封，无泄漏
- 持续高质量产水
- 膜堆上配有接线盒
- 有两种名义产水流量的膜堆：6.8 m3/h(30 gpm) 或3.4 m3/h (15 gpm)
- 与传统离子交换系统相比，极大地降低运行成本
- 垫片密封，无泄漏
- 提高CO2去除能力
- 最小产水流量m3/h（gpm）：3.4 (15)
- 名义产水流量m3/h（gpm）：6.8 (30)
- 最大产水流量m3/h（gpm）：10.2 (45)
- 最小产水流量m3/h（gpm）：1.7 (7.5)
- 名义产水流量m3/h（gpm）：3.4 (15)
- 最大产水流量m3/h（gpm）：5.1 (22.5)