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Ionpure® VNX55-E 和 VNX55-EX 膜堆
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Ionpure® VNX55-E和VNX55-EX大流量膜堆采用成熟可靠的 IONPURE 连续电去离子 (CEDI) 技术生产高纯水。专门针对微电子行业所需的超纯水而优化设计。
每个VNX55-E和VNX55-EX膜堆的名义产水流量均为 12.5 m3/h (55 gpm)。通过在系统中并联多个VNX55-E或VNX55-EX膜堆可以使单套系统产水达到甚至超过 228 m3/h (1,000 gpm) 。
- 保证产水电阻率达到18 MΩ.cm，为微电子和超纯水系统优化设计
- 硅和硼的去除率 ≥ 95%
- 钠离子和氯离子的去除率 ≥ 99.8%
- 回收率 98.5 - 99% ，达到高节水和循环使用
- Through-port垫片密封，无泄漏
- 大流量膜堆降低了系统成本，简化了机架设计
- 膜堆附带有连接件
- 膜堆上配有接线盒
- 可以提供50 mm 对焊聚丙烯 (PP) 连接件及图纸
- 保证产水电阻率 达到 18 MQ.cm，为微电子和超纯水系统优化设计
- 硅和硼的去除率 ≥ 99%
- 钠离子和氯离子的去除率 ≥ 99.9%
- 回收率 95 - 97.5%，达到高节水和循环使用
- Through-port 垫片密封，无泄漏
- 大流量膜堆降低了系统成本，简化了机架设计
- 膜堆附带有连接件
- 膜堆上配有接线盒
- 可以提供 50mm 对焊聚丙烯（PP）连接件及图纸
- 最小产水流量M³/H（GPM）：7.5（33）
- 名义产水流量M³/H（GPM）：12.5（55）
- 最大产水流量M³/H（GPM）：16.7（73.5）