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Ionpure® VNX-EP大流量膜堆
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VNX-EP大流量膜堆采用成熟可靠的Ionpure®连续电去离子 (CEDI) 技术生产高纯水。
VNX-EP大流量膜堆为电力行业的超临界锅炉和其它使用大量高纯水的应用提供超纯水。通过在系统中并联多个 VNX -EP膜堆可以使单套系统出力达到甚至超过 228 m3/h (1,000 gpm)。
VNX28-EP 和 VNX55-EP 的区别在于流量 (指产水流量)。VNX28-EP膜堆的名义产水流量为6.2 m3/h (27.5 gpm)。VNX55-EP具有更长的外壳，名义流量为12.5 m3/h (55 gpm)。
典型的产水电阻率大于17 MΩ.cm
典型的硅和硼的去除率大于95%
最高1ppm进水硬度 (以CaCO3计)
- Through-port垫片密封，无泄漏
- 膜堆附带有连接件
- 膜堆上配有接线盒
- 系统设计满足超临界锅炉补给水对钠离子、氯离子及硫酸根离子含量的严苛控制要求
- 回收率最高可达 95%
- 无需使用酸/碱及中和系统或更换树脂罐
最小产水流量m3/h（gpm）：5.7 (25.0)
名义产水流量m3/h（gpm）：12.5 (55.0)
最大产水流量m3/h（gpm）：18.7 (82.5)
最小产水流量m3/h（gpm）：2.8 (12.5)
名义产水流量m3/h（gpm）：6.2 (27.5)
最大产水流量m3/h（gpm）：9.4 (41.25)